Što je etch?

Tehnologija jetkanja poluvodiča, kao što naziv sugerira, proces je selektivnog uklanjanja materijala s površine poluvodiča kako bi se stvorili specifični uzorci ili strukture. To je ključni proces u proizvodnji poluvodičkih uređaja, uključujući mikroprocesore, memorijske uređaje i senzore, među ostalima.

Proces jetkanja uključuje upotrebu kemikalija ili plazme za uklanjanje određenih područja s površine materijala. U proizvodnji poluvodiča koristi se za stvaranje preciznih karakteristika na površini silicijskih pločica ili drugih podloga. Proces se općenito može klasificirati u dvije kategorije: mokro jetkanje i suho jetkanje.

Mokro jetkanje

Mokro jetkanje je metoda jetkanja koja uključuje uranjanje poluvodičkog materijala u kemijsku otopinu da se otope neželjena područja površine materijala. Kemikalija koja se koristi obično je kiselo, bazično ili oksidirajuće sredstvo koje reagira s materijalom. Mokro jetkanje je jednostavan, jeftin postupak koji se može koristiti za stvaranje visokokvalitetnih, jednolikih uzoraka na površini poluvodičke podloge.

Međutim, ima neka ograničenja kao što je zahtjev za usklađivanjem rješenja za jetkanje sa svojstvima materijala i poteškoće s kontrolom smjera jetkanja.

Suho jetkanje

Suho jetkanje je preciznija i složenija metoda jetkanja koja koristi plazmu za uklanjanje materijala s površine. Ovaj se postupak češće koristi u proizvodnji poluvodiča od mokrog jetkanja zbog njegove sposobnosti stvaranja preciznijih i ujednačenijih uzoraka.

Plazma koja se koristi u procesima suhog jetkanja može biti ili reaktivni plin ili mješavina plinova poput kisika, klora ili fluora, koji su ionizirani i zatim reagiraju s materijalom otkidanjem atoma s površine.

Tehnika suhog jetkanja nudi veću kontrolu nad smjerom i dubinom jetkanja, omogućujući stvaranje složenijih i zamršenijih uzoraka. Također je u mogućnosti postići visok omjer širine i visine, što je omjer dubine urezane značajke i njene širine.

Ukratko, tehnologija jetkanja poluvodiča igra ključnu ulogu u proizvodnji poluvodičkih uređaja. I tehnike mokrog i suhog jetkanja koriste se za stvaranje preciznih uzoraka na površini poluvodičkih podloga, a suho jetkanje se više koristi zbog svoje veće preciznosti i mogućnosti stvaranja složenijih struktura.